Läpäisyelektronimikroskopia TEM

Läpäisyelektronimikroskopia (TEM), käyttää korkean energiatason elektronisuihkua, jonka avulla saadaan erittäin korkearesoluutioinen kuva nanopartikkelin sisäisistä rakenteista. Menetelmää käytetään yleisesti materiaalitutkimuksessa, mikrobiologiassa ja nanoteknologiassa.

Contact header

Soveltuvat näytematriisit

  • Nanohiukkasten karakterisointi
  • Solurakenteiden tutkimus ja kuvantaminen virologiassa ja mikrobiologiassa
  • Nanoteknologian laadunvalvonta ja kehitys
  • Puolijohdetutkimus
  • Vianetsintä materiaalitutkimuksissa
  • Monikerroksisten ohutmateriaalien analyysit

TEMin tyypillisiä käyttökohteita

  • Elektroniikkateollisuus käyttää metodia valmistusvirheiden etsintään.
  • TEM on erinomainen työkalu eri materiaalien tarkkaan kuvantamiseen nanotasolla.
  • Metodi on käytössä mikrobien ja virusten sisärakenteiden koon ja muotojen tutkimisessa.

Läpäisyelektronimikroskooppi muistuttaa toimintaperiaatteeltaan tavallista valomikroskooppia, valon sijasta TEM käyttää elektroneita kuvantamiseen. Syntynyt kuva on huomattavasti tarkempi koska elektronisuihkun aallonpituus on pienempi kuin valon. Valmiilla kuvalla on korkea resoluutio ja siitä näkee näytteen sisäiset rakenteet erittäin tarkasti. Joissain tapauksissa on mahdollista nähdä jopa yksittäisiä atomeja. Valomikroskoopin resoluutio on huomattavasti tarkempi verrattuna pyyhkäisyelektronimikroskoopiin (SEM).

TEMillä on mahdollista tutkia solujen sisärakenteita. TEM on suosittu metodi mikrobien ja virusten kuvantamiseen. Kuvilla voidaan tutkia esimerkiksi flagelloja tai muita sisäisiä solurakenteita.

Elektroniikkateollisuus ja nanoteknologian laboratoriot käyttävät TEMiä ohutkalvomateriaalien (thin film material) ja mikropiirien (IC-chip) tutkimiseen. TEMiä käytetään yleisesti vaurioiden, virheiden ja epäpuhtauksien havaitsemiseen. 

TEMiä käytetään kiinteiden näytteiden kiderakenteen määrittämiseksi. Menetelmää soveltuu hyvin kristallografisten orientaatioiden selvittämiseen. Diffraktiomenetelmien avulla kuviin saadaan tarkkuutta jolloin objekteja voidaan havaita nanotasolla.

TEM menetelmä sopii parhaiten erittäin ohuille materiaaleille. Näytteen paksuus voi olla enintään 100nm, jotta elektronit voivat läpäistä sen. Näytettä joudutaan usein muokkaamaan halutun paksuuden saavuttamiseksi. Tutkittavat näytteet altistuvat myös elektronisuihkulle joka voi vaurioittaa hauraimpia materiaaleja.

Usein kysytyt kysymykset

  • Mihin TEMiä yleensä käytetään?

    TEM on pääasiassa käytössä elektroniikan ja nanoteknologian aloilla, sitä käytetään myös mikrobitutkimuksessa.

    Menetelmä tuottaa korkearesoluutioisia kuvia joita käytetään ohutkalvojen laadunvalvontaan ja vianetsintään.

  • Mitkä ovat TEMin rajoitteet?

    Jotta näytettä voidaan tutkia enimmäispaksuus voi olla 100nm. Tästä johtuen näytteitä joudutaan usein käsittelemään ennen kuvantamista.

    Elektronisuihku saattaa vaurioittaa joitakin materiaaleja.

  • Millaisia näytteitä TEMillä voi analysoida?

    TEM on käytössä nanopartikkelien tutkimuksessa ja ohutkalvojen analysoimisessa.

    Mikrobien ja virusten tutkiminen on mahdollista TEMillä.

TEM on korkean resoluution kuvantamismenetelmä useille kiinteille materiaaleille. TEM on erinomainen työkalu puolijohteiden kehitykseen ja se sopii useiden nanoteknologian materiaalien tutkimukseen. Metodin avulla voidaan löytää helposti ja tehokkaasti materiaalivirheitä ohutfilmeistä ja puolijohteista.

Valmiina auttamaan. Salamannopeasti.

Kysy tarjous:

Vastaamme aina 24 h kuluessa.

Muuta kysyttävää?